[정보통신신문=최아름기자]

특허, 상표, 디자인 등 지식재산권(IP) 출원 서류 작성 시 참고할 수 있는 모범사례집이 특허청에 의해 제작됐다.

특허청은 특허고객이 자주 실수하는 주요 사례에 대한 모범 작성 사례집을 제작해 홈페이지와 전국의 지역지식재산센터 등을 통해 20일부터 배포한다고 밝혔다.

이번에 발간하는 2021년 출원서식 작성 모범사례집에서는 특허출원서 등 자주 실수하는 9개 주요 서식에 대해 세부항목별로 잘못된 작성사례와 올바른 예시를 대비해 안내하고, 특히, ’국가연구개발사업 출원‘, ’임시명세서 출원‘ 등 새로운 항목을 추가하고 출원 시 자주 문의하는 내용에 대한 안내도 포함해 제작했다.

특허청은 고객의 관점에서 특허 등 출원 과정에서 발생할 수 있는 절차적 불편사항을 지속적으로 점검해 개선하고 있으며, ‘출원서식 작성 모범사례집’은 출원 관련 서식 작성 등에 어려움을 겪는 개인 및 중소기업의 손쉬운 출원을 지원하기 위해 2016년부터 발간해 배포하고 있다.

특허청은 이번 사례집을 통해 출원인들의 정확한 서류 작성을 지원하고 고객의 실수에 의해 발생하는 출원절차 지연이나 불이익이 감소돼 특허고객만족도가 더욱 향상되는 계기가 될 것으로 기대하고 있다고 밝혔다.

최아름 기자 다른기사 보기